Fungsi carian sedang dalam pembinaan.
Fungsi carian sedang dalam pembinaan.

The original paper is in English. Non-English content has been machine-translated and may contain typographical errors or mistranslations. ex. Some numerals are expressed as "XNUMX".
Copyrights notice

The original paper is in English. Non-English content has been machine-translated and may contain typographical errors or mistranslations. Copyrights notice

New Reactive Sputtering Model Considering the Effect of the Electron Emission Coefficiency for MgO Deposition Model Sputtering Reaktif Baharu Mempertimbangkan Kesan Pekali Pelepasan Elektron untuk Pemendapan MgO

Yoshinobu MATSUDA, Kei TASHIRO, Koji OTOMO, Hiroshi FUJIYAMA

  • pandangan teks lengkap

    0

  • Petikan Ini

Ringkasan:

Sputtering reaktif sasaran logam dalam nyahcas magnetron planar DC menunjukkan peralihan mod drastik antara mod logam dan oksida. Untuk menerangkan keputusan eksperimen secara kuantitatif, model sputtering reaktif baharu termasuk pekali pelepasan elektron sekunder bagi sasaran telah dibangunkan. Model ini berdasarkan model imbangan gas reaktif ringkas yang dicadangkan oleh Berg et al., dan boleh menerangkan secara kuantitatif keputusan eksperimen seperti pergantungan kadar aliran oksigen bagi kadar pemendapan dan pelepasan, diperhatikan untuk pemendapan sputter MgO.

Jawatankuasa
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E84-C No.11 pp.1667-1672
Tarikh penerbitan
2001/11/01
Diumumkan
ISSN dalam talian
DOI
Jenis Manuskrip
Special Section PAPER (Special Issue on Electronic Displays)
kategori
Paparan Plasma

Pengarang

Kata kunci

Contents [show]