Fungsi carian sedang dalam pembinaan.
Fungsi carian sedang dalam pembinaan.

The original paper is in English. Non-English content has been machine-translated and may contain typographical errors or mistranslations. ex. Some numerals are expressed as "XNUMX".
Copyrights notice

The original paper is in English. Non-English content has been machine-translated and may contain typographical errors or mistranslations. Copyrights notice

Hydrogen Plasma Annealing of ZnO Films Deposited by Magnetron Sputtering with Third Electrode Penyepuhlindapan Plasma Hidrogen bagi Filem ZnO Didepositkan oleh Magnetron Sputtering dengan Elektrod Ketiga

Kanji YASUI, Yutaka OOSHIMA, Yuichiro KUROKI, Hiroshi NISHIYAMA, Masasuke TAKATA, Tadashi AKAHANE

  • pandangan teks lengkap

    0

  • Petikan Ini

Ringkasan:

Filem zink oksida (AZO) al doped telah didepositkan menggunakan alat pemancar magnetron frekuensi radio (rf) dengan elektrod grid mesh. Penambahbaikan keseragaman kristal telah dicapai dengan penggunaan bias grid negatif yang sesuai untuk menekan pengeboman zarah bercas tenaga tinggi ke permukaan filem dengan berkesan. Keseragaman sifat elektronik filem, seperti kerintangan, kepekatan pembawa dan mobiliti Hall, juga ditambah baik menggunakan kaedah sputtering. Penyepuhlindapan plasma hidrogen telah disiasat untuk mengurangkan lagi kerintangan filem ZnO dan kepekatan pembawa meningkat sebanyak 1-21020 cm-3 tanpa penurunan dalam mobiliti Dewan.

Jawatankuasa
IEICE TRANSACTIONS on Electronics Vol.E92-C No.12 pp.1438-1442
Tarikh penerbitan
2009/12/01
Diumumkan
ISSN dalam talian
1745-1353
DOI
10.1587/transele.E92.C.1438
Jenis Manuskrip
Special Section PAPER (Special Section on Nanomaterials and Nanodevices for Nanoscience and Nanotechnology)
kategori
Bahan Nano dan Struktur Nano

Pengarang

Kata kunci

Contents [show]